IT之家 9 月 15 日音问，华为鸿蒙 HarmonyOS 6.0.0 (20) Beta5 开采者版块当天发布，新版块在 5.1.1 (19) 版块基础上，进一步增强 ArkUI 组件智商，新增加个系统组件并优化多个组件调用细节等；ArkWeb 的 Chromium 内核升级至 132 版块，ArkWeb 智商增强；新增端侧问答模子，撑握端侧的智能问答，新增灵敏化数据检索 C API，撑握向量化、学问检索和学问问答的智商；舆图智商新增矢量图层、流场图层、海量点图层、热力争层，撑握通过自界说组件生成 marker 图标等等。

另外，DevEco Studio 新增 AI 智能提拔编程，进一步提高编译构建成果和优化内存占用，ArkUI Inspector 新增撑握按照组件粒度 3D 伸开专揽，浅易检察组件之间的嵌套、遮挡关系，灵敏调优智商新增撑握对 Allocation 内存分派问题和 Snapshot 内存堆快照问题进行分析。

IT之家附华为鸿蒙 HarmonyOS 6.0.0 (20) Beta5 开采者版块环节特质如下：

AppGallery Kit

专揽市集更新功能新增撑握 Wearable 设立。

App Linking Kit

新增撑握通过团聚长入按指定面貌跳转至专揽，举例跳转至 HarmonyOS 平台预览页、专揽市集细目页、自界说网址、深度长入地址等。

ArkUI

C API 新增提供渲染节点的智商。

Camera Kit

新增撑握对微距景况变化事件的监听。

Media Kit

新增撑握通过 C API 设立拿获图像在研究区域的填充形状。

DevEco Studio 6.0.0 Beta5（6.0.0.848）新增和增强特质如下：

开采环境搭建

元行状工程撑握 Car 设立开采。

新建元行状工程时，撑握在 DevEco Studio 页面内注册新的元行状 App ID。

新增 OpenHarmony 开源中心仓（OHPM Index）进口，匡助开采者高效筛选和处理三方库。

使用 AI 智能提拔编程

智能问答新增添加腹地的学问库，并字据学问库进行指定立场的高低文问答功能。

新增生成意图庇荫器和添加意图插件智商，以及 DevEco Studio 新增内嵌的小艺智能平台。

编写与调试专揽

新增撑握测试 C++ 代码，对 C++ 代码进行隐敝率统计。

自动签名新增关联注册专揽进行签名的功能。

Code Linter 新增 6 条查抄律例。

变更特质

在预览器中使用文献处理相关的 API 时，仅撑握预览 / 预览调试 Stage 模子的 HAP / HSP，何况需要先灵通 Enable file operation 开关。

6.0.0 (20) Beta5 开采者套件配套信息

软件包

发布类型

版块号

Build Version

发布技能

系统

Beta

HarmonyOS 6.0.0 Beta5

软件版块：6.0.0.47

API 版块：6.0.0 (20)

2025/09/15开yun体育网

DevEco Studio

Beta

DevEco Studio 6.0.0 Beta5

6.0.0.848

2025/09/15

SDK

Beta

HarmonyOS 6.0.0 Beta5 SDK

基于 OpenHarmony SDK Ohos_sdk_public 6.0.0.47 (API 20 Beta5)

2025/09/15